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半导体原材料清洗用纯水设备进行预处理的条件有哪些

文章出处:EDI水处理编辑:EDI水处理发表时间:2020-02-21 13:25:06

  一套好的水处理设备主要看设备的预处理,原水可以通过预处理将水中的漂浮物过滤除去,同时也可以对原水中的大量细菌进行杀菌工作,防止细菌的繁殖。原水经过这些处理会使半导体原材料清洗用纯水设备流水变得顺畅,也降低了水中的浓度,下面大家来讲讲半导体原材料清洗用纯水设备中进行预处理的条件:

 

  半导体原材料清洗用纯水设备污染指数的检测结果如果小于3为优,大于5为不合格。同时还应测一下水的PH值,应当保证水是中性的。这样在进行半渗透膜的过滤的时候,可以调高过滤的效果。半渗透膜的透水量是随水温的增高而增大,所以在半渗透膜可以承受的范围内,保证溶液的浓度,如果温度过高,可以加快半渗透膜中醋酸纤维素膜的水解,变软。

  所以对于半渗透膜尤其是有机膜来说,溶液的温度不能超过40摄氏度,复合膜的温度不能超过45摄氏度,有机膜的最低温度为20摄氏度,复合膜的最低温度为5摄氏度。在这样的温度条件下,温度越高越好。

  上述就是半导体原材料清洗用纯水设备中进行预处理的条件,当然大家还要安装一个检测悬浮物的装置,为了净化水质达到更好的效果。

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