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单晶硅清洗超纯水设备企业分享操作人员如何维护设备

文章出处:EDI水处理编辑:EDI水处理发表时间:2020-02-24 16:26:29

  半导体器件生产中单晶硅应该经严格清洗,清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物,这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。因此单晶硅清洗超纯水设备应运而生,单晶硅清洗超纯水设备正式运行之后,企业安排的操作人员应该如何维护单晶硅清洗超纯水设备呢?下面单晶硅清洗超纯水设备企业为您详细说明:

  1、运行单晶硅清洗超纯水设备时,操作人员应该先开启单晶硅清洗超纯水设备,让设备运行20分钟左右,给设备一个磨合过程,这样做的目的是可以减少单晶硅清洗超纯水设备部件之间的磨损。

  2、单晶硅清洗超纯水设备运行时间最好在2-5个小时之间,如果设备处于长时间运行状态,会让设备部件超负荷,时间久了单晶硅清洗超纯水设备会出现故障。所以,工作人员要适当停止设备,让设备得到适当的休息。

  3、单晶硅清洗超纯水设备在运行过程中,工作人员要留意设备各个部件之间接触摩擦是否有异常的声音,如果有异常的声音应该尽快停止使用,并为部件连接处涂抹润滑油。

  以上就是小编为大家先容的全部内容,希翼对您有帮助。大家在使用单晶硅清洗超纯水设备一定要按照厂家要求定期清洗、维护单晶硅清洗超纯水设备。

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