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如何正确清洗半导体生产用超纯水设备中的反渗透膜

文章出处:EDI水处理编辑:EDI水处理发表时间:2020-03-03 15:56:56

  反渗透膜是半导体生产用超纯水设备用水的关键,如果反渗透膜受到污染,将直接影响半导体生产用超纯水设备产生的水质和水量。那么如何正确清洗半导体生产用超纯水设备中的反渗透膜?下面小编为大家详细先容一下:

 

  一、化学清洗

  1、添加酶洗剂和使用酶洗剂处理膜对有机污染特别有效,特别是对蛋白质、油和其他有机污染物。如果在50-60℃下清洗效果更好,通常在运行10天或半个月后用1%的酶洗剂低压清洗膜。

  2、浓盐水对清洗膜极为有效,因为高浓度的盐水会削弱胶体之间的相互作用,促进胶体的凝聚形成胶束。

  3、水溶性乳化剂对清洗被油和氧化铁污染的薄膜非常有效,通常持续30-60分钟。

  二、物理清洗

  简单的物理清洗方法是在低压、高流速下用水冲洗30分钟,可以在一定程度上恢复膜的渗透性,但长期后渗透性仍会下降,它还可以用水和空气混合液在低压下冲洗膜表面15分钟。该方法对初期被有机物污染的膜的清洗是有效的。

  以上就是小编为大家先容的全部内容,希翼对您有帮助。半导体生产用超纯水设备的用户可以按照上述方法清洗半导体生产用超纯水设备的反渗透膜。

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