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半导体频频上热搜 超纯水设备成为其重要推动力

文章出处:编辑:发表时间:2021-02-08 12:56:31

  近日来,关于半导体的话题络绎不绝,频频热上搜,这意味着这一年将是半导体行业迎来重要转机的一年。基于国产半导体的战略地位以及中美半导体竞争,我国提出了半导体2020年自给率提高至40%、2025年提高至70%的目标。

  国产半导体将迎来重大机遇

  经过国产厂商多年的追赶,我国集成电路高端关键装备已形成一定支撑能力,国产半导体设备已经完成“从0到1”的突破。但目前来看,要完成自给率目标还有很长一段距离。“十四五”将是国产半导体产业发展的关键时期,国产半导体设备将迎来国产化的重大机遇。

  由于供不应求,半导体集成电路产能从2020年底开始出现持续紧张,导致制造、封测价格上涨,芯片交货周期延长。在产能紧缺的背景下,半导体产业有望大规模扩产,带动半导体制造设备需求旺盛。另一方面,先进半导体设备的进口一直受到限制,因此国产半导体设备的替代前景十分广阔。

  超纯水设备成为半导体行业重要推动力

  半导体的制造是在一级洁净度(每立方英尺的空气中最多只能有一粒直径小于0.3微米的灰尘)的环境里进行的,可见半导体元件生产过程中对于洁净度的要求有多么严格。在芯片生产过程中,影响其品质的不止有空气,还有水质。因此我国在大力发展半导体的同时,对其用水水质也提出了更高的要求,可以说超纯水设备成为了半导体行业重要推动力。

超纯水设备

  超纯水的生产流程是怎样的?

  超纯水又称UP水,是指电阻率达到18 MΩ*cm(25℃)的水。这种水中除了水分子外,几乎没有什么杂质,更没有细菌、病毒、含氯二噁英等有机物。

  自来水进入原水箱,通过原水泵增压,经砂滤器、炭滤器、阻垢剂加药、保安过滤器,到达反渗透单元,经两级反渗透过滤进入EDI单元,抛光混床单元,EDI出水进入纯水水箱,此时水质的电阻率是15兆欧,经过抛光混床后,产水电阻率达到18兆欧,但是不进入水箱,直接进入用水点。因为水箱中若出现产水滞留,会影响产水水质。纯水供水设计为循环方式,经纯水供水泵增压,通过紫外线消毒器、抛光混床接入纯水供水管,到达使用点。

  超纯水设备作为半导体行业生产的重要基石,是半导体制造端的重中之重。莱特莱德超纯水设备改良了传统工艺阶段供水的缺点,配备了浓水置换专业技术,防止膜系统受到微生物污染。通过完善的技术,提高系统回收率,降低能耗和运行成本。可以有效去除水中的杂质、重金属离子、细菌等有害物质,实现大量连续供应超纯水。可满足芯片生产用水的相关标准,降低企业生产的风险和成本。大家的目标是成为客户值得信赖的服务商,为客户提供不但买得起,还能用得起,更能用得好的环保解决方案!

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